TSMC เผยเมื่อวันศุกร์ที่ผ่านมาว่ามีปัญหาการผลิตเวเฟอร์สำหรับกระบวนการผลิต 12 และ 16 นาโนเมตรที่โรงงาน Fab 14 ทำให้สูญเสียเวเฟอร์ไปจำนวนหลายหมื่นชิ้น
หลังจากทำการตรวจสอบและสืบสวนก็พบว่าสาเหตุเกิดจากชั้น Photoresist ที่ใช้ผลิตนั้นมีสารโพลิเมอร์ปนเปื้อน ทาง TSMC ประเมินความเสียหายจากเวเฟอร์หลายหมื่นชิ้นนี้อยู่ที่ $550 ล้านดอลลาร์สหรัฐ และผู้ที่ได้รับผลกระทบมากที่สุดคือ Nvidia ที่ใช้กระบวนการผลิต 12 และ 16 นาโนเมตรในการ์ดหลายรุ่นนั่นเอง
ณ ตอนนี้ทาง TSMC ได้หาซัพพลายเออร์รายใหม่ที่สามารถส่งวัตถุดิบทำ Photoresist ที่ไม่มีสารปนเปื้อนได้แล้ว แต่คาดว่าการ์ดจอระดับกลางๆ ที่ใช้กระบวนการผลิต 12 / 16 นาโนเมตรจะขาดตลาดไปอีก 4 – 5 เดือน
แม้ว่ากระบวนการผลิต 12 / 16 นาโนเมตรจะไม่ทำส่วนแบ่งกำไรเยอะเท่า 7 นาโนเมตร แต่ลูกค้าส่วนใหญ่ยังคงใช้กระบวนการผลิตขนาดดังกล่าวอยู่ ถือเป็นอีกหนึ่งช่องทางรายได้หลักของ TSMC โดยปกติแล้วกระบวนการผลิต 28 นาโนเมตรจะมีเลเยอร์ Photoresist ราวๆ 40 – 50 ชั้น และเพิ่มขึ้นไปเรื่อยๆ ตามขนาดกระบวนการผลิตที่เล็กลง (7 นาโนเมตรจะมีขนาดอยู่ที่ 80 – 85 ชั้น) และยิ่งมากชั้นก็ต้องใช้เวลานานขึ้นในกระบวนการผลิต โดย 12 / 16 นาโนเมตรนั้นใช้เวลาราวๆ 60 วันถึงจะผลิตเสร็จ
ด้วยระยะเวลาตั้งแต่สั่งวัตถุดิบผลิตใหม่ ไปจนถึงกระบวนการผลิตเสร็จสิ้นและส่งไปให้ผู้ผลิตการ์ดจอนำไปทำเป็นชิปประมวลผล คาดว่าจะต้องใช้เวลาอย่างน้อย 4 เดือนหลังจากนี้ แน่นอนว่าน่าจะส่งผลกระทบกับลูกค้าต่างๆ ที่ไม่สามารถผลิตการ์ด หรืออุปกรณ์ได้ตามคำสั่งซื้อของลูกค้านั่นเอง ผลกระทบนี้จะคงอยู่ไปจนถึงอย่างน้อยไตรมาสที่ 3 ของปีนี้ล่ะครับ
ที่มา – WCCFTech
You must be logged in to post a comment.